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全反射X射線熒光(TXRF)前處理方式的考量

更新日期: 2024-02-21
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全反射X射線熒光(TXRF)是一種微量分析方法,特別適用于樣品量小的樣品,一次分析所需樣品量,固體材料可達(dá)μg級(jí),液體樣品則通常少于100μL

TXRF受自身原理限制,樣品于玻片上必須滿足薄層的要求,以消除普遍存在于EDXRF中的基體影響。因此,其樣品量明顯減少,且前處理方式也有著明顯不同。

通常,可根據(jù)樣品形態(tài)選擇合適的前處理方式,且可能需要考慮如下的幾點(diǎn)要求:

a.   于樣品玻片上形成均勻的薄層;

b.   待測(cè)元素及內(nèi)標(biāo)元素均勻分布;

c.   待測(cè)元素的富集;

d.   待測(cè)元素與干擾元素的分離;

e.   阻止樣品溶液擴(kuò)散;

基于以上因素,TXRF所采用的前處理既繼承了部分常見無(wú)機(jī)元素檢測(cè)中的方法,又發(fā)展出了具有自身特色的前處理方式,如下圖:


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